Lithografi EUV ASML Tetap Menjadi Hambatan Chip Paling Kritis bagi China, Kata Pengamat Belanda

Menurut pengamat semikonduktor Belanda Marc Hijink yang baru-baru ini menulis di sebuah publikasi Belanda, hambatan paling menantang bagi China dalam pengembangan semikonduktor tetap pada peralatan lithography ultraviolet ekstrem (EUV) milik ASML, yang hingga saat ini tidak ada alternatif yang layak. Hijink mencatat bahwa ASML menghabiskan sekitar 15 tahun untuk mengembangkan teknologi EUV dari teori hingga produksi komersial, sebuah integrasi kompleks antara rekayasa sumber cahaya dan manufaktur presisi di mana para pesaing, termasuk Nikon asal Jepang—yang telah menginvestasikan lebih dari 100 miliar yen—pada akhirnya gagal.

Meskipun perusahaan-perusahaan China seperti Huawei berupaya melakukan terobosan dalam desain chip melalui arsitektur RISC-V sumber terbuka untuk menghindari pembatasan ekspor AS terhadap teknologi x86 dan ARM, sektor peralatan EUV menghadirkan tantangan yang jauh lebih berat. Secara global, ASML mempertahankan dominasi hampir total dalam teknologi EUV, dan China saat ini tidak memiliki alternatif domestik yang layak secara komersial. Analisis ini menekankan bahwa membangun kemampuan EUV mandiri di bawah kendali ekspor saat ini memerlukan memasuki wilayah teknologi yang belum pernah dijelajahi sebelumnya.