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A supremacia na produção de chips EUV é posta em causa por tecnologias emergentes de litografia até 2030

2026-07-13 05:10:35

De acordo com a Forbes, a fabricação avançada de chips enfrenta uma possível perturbação à medida que várias tecnologias emergentes de litografia se aproximam da comercialização até 2030. A litografia atómica utiliza feixes atómicos gravados diretamente em wafers de silício, podendo reduzir as larguras das linhas dos chips de 1 a 2 ordens de grandeza, para dimensões menores do que as atuais capacidades do EUV. A litografia por raios-X, com comprimentos de onda abaixo de 1 nanómetro, permite teoricamente estruturas ainda mais precisas de transístores. Recentemente, a Huawei anunciou o desenvolvimento de uma nova arquitetura de semicondutores destinada a fabricar chips avançados para IA sem depender da tecnologia EUV, demonstrando o avanço da indústria em direção a alternativas ao método de litografia atualmente dominante.

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