EUV-літографія ASML залишається «найскладнішим бар'єром» для Китаю у нарощуванні виробництва напівпровідників, каже нідерландський експерт.

За словами Марка Хійінка, який пише у Het Nieuwe Rijnmond, напівпровідникова промисловість Китаю стикається з найбільшою технічною перешкодою — обладнанням для екстремального ультрафіолетової (EUV) літографії, яке наразі виробляється виключно нідерландським гігантом ASML, без доступної альтернативної технології.

Хійінк зазначив, що ASML витратила приблизно 15 років на розробку технології EUV від лабораторного принципу до масового виробництва, інтегрувавши складні джерела світла та прецизійні виробничі можливості. Японський конкурент Nikon, який інвестував понад 100 мільярдів єн у дослідження EUV, не зміг створити комерційно життєздатне обладнання та вийшов з ринку. Тим часом Китай роками вкладав кошти в дослідження EUV та отримав патенти, але досі не має комерціалізованого виробничого обладнання. Хійінк підкреслив, що в умовах чинних експортних обмежень розробка EUV є технологічною «нічийною землею» для китайських підприємств, зосереджуючи ресурси, які жодна окрема компанія не може легко відтворити.