荷兰专家称ASML的EUV光刻技术仍是中国半导体发展中的“最艰难障碍”

据马克·希金克在《新鹿特丹商报》撰文指出，中国半导体行业面临的最关键技术障碍是极紫外（EUV）光刻设备，该设备目前由荷兰设备巨头ASML独家制造，且无替代技术可用。

希金克提到，ASML耗费约15年时间，将EUV技术从实验室原理发展为量产设备，集成了复杂光源与精密制造能力。日本竞争对手尼康在EUV研究上投入超过1000亿日元，却未能生产出商业可行的设备并最终退出市场。与此同时，中国在EUV研究上投入多年并取得专利，但仍未实现商业化生产设备。希金克强调，在当前出口管制下，EUV开发对中国企业而言是技术的“无人区”，集中了任何单一公司都难以复制的资源。