ロイターによると、半導体製造装置メーカーのASMLは、金曜（6月19日）に、中国へ極端紫外線（EUV）リソグラフィー・システムを出荷したことは一度もないと否定した。電子メールで同社は次のように述べた。「ASMLは、中国に対してEUVリソグラフィー・システムを出荷したことはなく、また、中国に対してEUVシステム向けに特別に設計されたいかなる部品、モジュール、または機器も納入していない。」
この否定は、米国の商務長官ハワード・ルトニック氏が、EUV装置が米国主導の輸出管理に違反して中国に到達する可能性について懸念を表明したという報道の後に出された。オランダ政府も同様に、欧州のデュアルユース規制および各国の措置の下で、半導体の輸出規制を厳格に執行する姿勢を改めて強調し、「これらの規制の対象となるすべての装置、部品、技術にはライセンスが必要であり、必要に応じて介入の対象となる」と述べた。
