三星 HBM4E 良率超过 70%,D1d DRAM 工艺目标是 11 月获得生产批准

据三星电子DS部门CTO宋在赫透露,截至6月30日,HBM4E可靠性测试良率已超过70%,开发进入稳定阶段。该公司于2月开始量产HBM4,正推进下一代D1d DRAM工艺技术,目标是在11月获得生产准备批准。D1d将应用于三星的HBM5及后续产品。
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